超小型的濺射裝置涂布機(jī)用于制備導(dǎo)電薄膜

超小型的濺射裝置涂布機(jī)用于制備導(dǎo)電薄膜

特點(diǎn)

• 小型化設(shè)計(jì)：作為直流濺射類設(shè)備中的小型機(jī)，SC-701MC具有超緊湊的機(jī)身尺寸，便于實(shí)驗(yàn)室和小規(guī)模生產(chǎn)中使用。
• 全自動(dòng)操作：從排氣到涂層，再到進(jìn)入大氣，整個(gè)過程都是全自動(dòng)的，減少了人工操作的復(fù)雜性和誤差。
• 磁控管陰極：采用磁控管陰極，有助于減輕離子損傷，從而生產(chǎn)出高質(zhì)量的濺射薄膜。
• 膜厚控制：配備預(yù)設(shè)方式和數(shù)字顯示膜厚監(jiān)視器，可以精確控制膜厚。
• 易于操作：專用的試料臺(tái)和靶材臺(tái)，可以方便地調(diào)整靶材與基板之間的距離。
• 適用范圍廣：適用于各種電子元器件的電極膜制備、反射薄膜制備等。

技術(shù)參數(shù)

應(yīng)用

• 各種電子元器件的電極膜制備。
• 用于制造反射薄膜等的應(yīng)用。

特點(diǎn)

• 小型化設(shè)計(jì)：作為直流濺射類設(shè)備中的小型機(jī)，SC-701MC具有超緊湊的機(jī)身尺寸，便于實(shí)驗(yàn)室和小規(guī)模生產(chǎn)中使用

  。
• 全自動(dòng)操作：從排氣到涂層，再到進(jìn)入大氣，整個(gè)過程都是全自動(dòng)的，減少了人工操作的復(fù)雜性和誤差

  。
• 磁控管陰極：采用磁控管陰極，有助于減輕離子損傷，從而生產(chǎn)出高質(zhì)量的濺射薄膜

  。
• 膜厚控制：配備預(yù)設(shè)方式和數(shù)字顯示膜厚監(jiān)視器，可以精確控制膜厚。
• 易于操作：專用的試料臺(tái)和靶材臺(tái)，可以方便地調(diào)整靶材與基板之間的距離

  。
• 適用范圍廣：適用于各種電子元器件的電極膜制備、反射薄膜制備等

  。

技術(shù)參數(shù)

應(yīng)用

• 各種電子元器件的電極膜制備。
• 用于制造反射薄膜等的應(yīng)用。