技術文章
日本大明化學99.99%以上低溫燒結(jié)性高純度氧化鋁粉體技術解析
引言
在現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)中，高純度氧化鋁粉體因其優(yōu)異的物理和化學特性，在電子、光學、醫(yī)療及工業(yè)領域有著廣泛的應用。日本大明化學工業(yè)株式會社（TAIMEI CHEMICALS）作為的高純氧化鋁生產(chǎn)商，其開發(fā)的99.99%以上低溫燒結(jié)性高純度氧化鋁粉體，憑借性能和創(chuàng)新技術，成為高性能陶瓷制造的理想選擇。
技術參數(shù)與性能特點
大明化學的高純度氧化鋁粉體具有以下關鍵特性：
- 超高純度：氧化鋁含量≥99.99%，部分型號如TM-DAR純度可達99.995%以上。
- 超微細粒徑：一次粒子徑可達0.10μm，部分型號如TM-5D粒徑為0.20μm。
- 低溫燒結(jié)性：TM-D系列可在1250-1300℃實現(xiàn)致密化燒結(jié)，燒結(jié)密度可達理論密度的98%以上。
- 優(yōu)異的成型性能：通過表面修飾技術防止顆粒團聚，振實密度最高可達1.0g/cm3，注射成型時填充率提升15%以上。
- 光學級透明性：通過HIP（熱等靜壓）燒結(jié)后，TM-DA/TM-DAR可制備透光率>85%@600nm的透明陶瓷。
工藝技術
前驅(qū)體控制技術
大明化學采用NH?AlCO?(OH)?（堿性碳酸鋁銨）作為前驅(qū)體，通過精確控制熱分解條件，獲得高α相轉(zhuǎn)化率的氧化鋁粉體。這種工藝確保了產(chǎn)物具有均勻的顆粒形貌和高的相純度。
低溫燒結(jié)特性
大明化學的氧化鋁粉體在1250-1300℃的溫度范圍內(nèi)即可實現(xiàn)致密化燒結(jié)，遠低于傳統(tǒng)氧化鋁的燒結(jié)溫度。這一特性不僅大幅降低了能耗，還減少了晶粒異常生長，特別適合精密陶瓷部件的制造。
表面修飾技術
通過表面修飾技術防止顆粒團聚，提高了粉體的振實密度和注射成型時的填充率，進一步優(yōu)化了燒結(jié)性能。
應用領域
電子材料
大明化學的高純度氧化鋁粉體廣泛應用于電子材料領域，如IC基板、傳感器等。其高純度和均勻粒度有助于提高電子產(chǎn)品的性能。
光學材料
在光學材料領域，大明化學的氧化鋁粉體可用于制造透明陶瓷、紅寶石、YAG激光晶體等。通過HIP燒結(jié)后，可制備透光率>85%@600nm的透明陶瓷，用于高壓鈉燈電弧管、激光窗口等光學器件。
精密陶瓷
大明化學的氧化鋁粉體適用于制造各種精密陶瓷部件，如切削工具、軸承等。其高硬度和耐磨性是關鍵優(yōu)勢。
生物醫(yī)療
在生物醫(yī)療領域，大明化學的氧化鋁粉體可用于制造人工骨骼、牙科材料等。其高純度和生物相容性使其成為理想的材料選擇。
結(jié)論
日本大明化學的99.99%以上低溫燒結(jié)性高純度氧化鋁粉體，憑借其超高純度、超微細粒徑、低溫燒結(jié)性及優(yōu)異的成型性能，成為高性能陶瓷制造的理想選擇。其在電子、光學、醫(yī)療及工業(yè)領域的廣泛應用，展現(xiàn)了其的性能和廣泛的市場前景。
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