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技術文章

紅外線高速加熱爐的工作原理及應用范圍

 
只有安裝在各種氣氛（例如超高真空或氣流）中的樣品才能通過紅外線jing確定位，以快速加熱樣品而不會發生接觸。

它可以輕松連接到真空系統或分析儀。
這是Thermo Riko的主要型號。
 
 
快速升溫：gao升溫速度150℃/秒，gao1500℃約1min
清潔加熱：不用擔心熱源或電磁感應產生的氣體
局部供暖：僅用紅外線照射樣品，請勿加熱周圍環境
可自由安裝：可以連接到各種系統
 
 
高速升溫和Si和SiC等樣品的退火
氧化氣氛中的氧化物晶體形成和薄膜形成
在氫氣和氮氣中加熱基材
在X射線或紫外線照射下樣品的溫度升高
在分析儀中加熱樣品，例如加熱的解吸氣體分析儀，XPS，XRD，PLD等。
在磁場中加熱，在非磁場中加熱
在加壓氣氛中加熱
加熱樣品
 
 
　　　紅外線引入加熱裝置根據應用具有以下規格。 
  
　超高真空型它支持　10 -9 Pa的超高真空。
　高速升溫型　大溫度上升率可以實現150°C /秒的高速溫度上升。
　常溫加熱型　對于放置在大氣中的樣品，可以進行點加熱。
　加壓氣氛類型　可以加熱壓力在10個大氣壓以下的樣品。
　特殊功能　利用GV系列的功能，我們可以滿足各種要求，例如快速降溫，負載加熱和磁場加熱。
　請隨時與我們聯系。
　CE標志合格　我們還生產符合CE標志的規范。

原理圖

 
　超高真空型GVH
 
型號名稱GVH198GVH298
　紅外燈額定值1千瓦2千瓦
　gao溫度1200℃1400℃
　受熱面φ20毫米
　大加熱速度1℃/秒
　大極限真空5×10 -9帕
　冷水量1升/分鐘2升/分鐘
 
　高速升溫型GV / GVL
 
型號名稱GV154GV198GVL298GVL398
　紅外燈額定值500瓦1千瓦2千瓦3千瓦
　gao溫度1100℃1300℃1500℃1600℃
　受熱面φ14毫米φ20毫米
　大加熱速度100℃/秒100-150℃/秒
　大極限真空5×10 -7帕
　冷水量1升/分鐘2升/分鐘
 
　加壓氣氛類型GVP
 
型號名稱GVP198GVP298
　紅外燈額定值1千瓦2千瓦
　gao溫度1200℃1300℃
　受熱面 φ20毫米
　大加熱速度 100℃/秒
　大耐壓 1MPa以下
　冷水量1升/分鐘2升/分鐘
聯系人：林經理
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